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研究分野ではTOCやエンドトキシンフリー、分析分野では限りなくH2Oに近いなど、分野ごとに比抵抗値以外にも水質の性能要求が高まっています。 超純水製造装置「うるぴゅあ」は、TOC成分除去方法として、光触媒を利用することに成功しました。国内特許(特許第4298603号)、米国特許2件(7,384,614、7,438,819)取得
▼ 超純水製造装置「うるぴゅあ」製品紹介
▼ 超純水製造装置「うるぴゅあ」特徴
▼ 超純水製造装置「うるぴゅあ」キャンペーン
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